RO膜元件是反滲透設(shè)備系統(tǒng)中最重要的部分，其日常維護(hù)的好壞直接影響到系統(tǒng)出水水質(zhì)的好壞，這里對于反滲透膜的清洗方法加以概述，系統(tǒng)說明反滲透膜在運(yùn)行中可能出現(xiàn)的污染物以及相對應(yīng)的清洗方法。

　反滲透設(shè)備RO膜污染原因及清洗方

　方法/步驟

1. 細(xì)菌污染

　　一般特征：脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降明顯增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低

　　清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴(yán)重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；0.1%NaOH和0.03%SDS，PH=11.5。

二、硫酸鈣污染

一般特征：脫鹽率明顯降低、系統(tǒng)壓降稍有或適度增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍有降低

清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴(yán)重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C；有時(shí)也可用PH小于10的NaOH水溶液清洗。

　三、有機(jī)物沉淀

　一般特征：脫鹽率可能降低、系統(tǒng)壓降逐漸升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸降低

　清洗方法：PH值10,2%三聚磷酸鈉溶液，0.8%EDTA四鈉（嚴(yán)重時(shí)更換為0.25%的Na-DDBS),溫度40C。

四、氧化物/氫氧化物（鐵、鎳、銅）污染

　一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降明顯升高、系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低

　清洗方法：氨水調(diào)PH值4,2%的檸檬酸溶液，溫度40C，有時(shí)也可以用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。

五、無機(jī)鹽沉淀物污染

　一般特征： 脫鹽率明顯下降、系統(tǒng)壓降增加、系統(tǒng)產(chǎn)水量稍降

　清洗方法： 2%檸檬酸溶液，氨水調(diào)PH值4，溫度40C，也可用PH2-3（0.5%）的鹽酸水溶液清洗。

六、各種膠體（鐵、有機(jī)物及硅膠體）污染

　一般特征： 脫鹽率稍有將低、系統(tǒng)壓降稍有上升、系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸減少。

　清洗方法：硫酸調(diào)PH值10,0.2%三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40C；有時(shí)也可以用PH小于10的NaOH水溶液清洗。

　注意事項(xiàng)

　前置處理器要經(jīng)常沖洗，確保反滲透進(jìn)水水質(zhì)達(dá)標(biāo)。

　反滲透膜元件根據(jù)出水水質(zhì)情況確定清洗周期。